Pressemitteilung:

SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kooperieren bei der Weiterentwicklung der Nanoimprint-Lithografie

SÜSS MicroTec und micro resist technology GmbH kündigen ein Joint Venture an, um den Einsatz der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bei der Herstellung zukünftiger Anwendungen weiter voranzutreiben. Die Kooperation ist unter dem Dach des SUSS Imprint Excellence Center angesiedelt.

Garching und Berlin, 9. Juni 2020 - SÜSS MicroTec, führender Anbieter von Anlagen und Prozesslösungen für die Halbleiterindustrie und verwandte Märkte, und micro resist technology GmbH, ein führendes Unternehmen für die Entwicklung und Herstellung innovativer Fotoresiste und fortschrittlicher Nanoimprint-Materialien, geben heute ihre Zusammenarbeit auf dem Gebiet der Nanoimprint-Lithografie (NIL) bekannt. NIL ist ein Schlüsselfaktor für die Revolution in der additiven Fertigung durch High-Fidelity-Musterübertragung. Dieses UV-Härtungs-Prägeverfahren wird zunehmend eingesetzt bei der Herstellung zukünftiger Anwendungen in der Photonik, wie z.B. diffraktive optische Elemente in Augmented-Reality-Brillen oder für die Gesichtserkennung sowie für den Transfer von Mikro- und Nano-Strukturen, z.B. in optischen Sensoren, Laser-Nano-PSS (Patterned Sapphire Substrates) oder für den Fälschungsschutz.

Die Anforderungen an die Nanoimprint-Lithografie und ihre Anwendungen ist in stetigem Wandel. Das grundlegende Ziel der Zusammenarbeit besteht daher darin, neu entstehende Anforderungen zu verstehen und hierfür Lösungen sowohl auf Prozess- als auch auf Materialebene zu implementieren, um so den hohen Herausforderungen der Industrie zu entsprechen.

Ein qualitativ hochwertiger Imprint basiert auf drei Säulen: Equipment, Verfahren und Materialien. Die ersten beiden Säulen, Ausrüstung und Erfahrung in der Großserienfertigung, werden über das SUSS Imprint Excellence Center, einer gemeinsamen Unternehmung von SUSS MicroTec Lithography GmbH und SÜSS MicroOptics SA, bereitgestellt. Durch die Verbindung mit der dritten Säule, der chemischen Expertise des Nanoimprint-Materialanbieters, micro resist technology GmbH, wird diese Konstellation weiter ergänzt und gestärkt. Die Kombination dieser drei Säulen ermöglicht es, den hohen Bedarf der Industrie mit seinen immer anspruchsvolleren Anforderungen an die Replikation von Nanostrukturen besser abzudecken.

"Das SUSS Imprint Excellence Center stützt sich auf jahrzehntelange Erfahrung im Bereich Imprint-Equipment und industrieller Prozessentwicklung für die Hochvolumenproduktion ", erklärt Franz Richter, CEO von SÜSS MicroTec. "Eine weitere Stärkung dieses Clusters durch eine starke Partnerschaft mit einem führenden Resist-Lieferanten und erfahrenen Materialhersteller ist unabdingbar, um perfekte Imprint-Lösungen zu ermöglichen".

Die beteiligten Unternehmen haben sich der intensiven Zusammenarbeit verschrieben, mit dem gemeinsamen Ziel, die Entwicklung bestehender und neuer Anwendungen sowohl in Richtung Hochleistungs- als auch Großserienproduktion weiter voranzutreiben.

"Seit mehr als zwei Jahrzehnten liefert die micro resist technology (MRT) maßgeschneiderte Resist-Rezepturen für NIL rund um den Globus", sagt Gabi Grützner, CEO und Gründerin von MRT. "Durch unser profundes Know-how auf dem Gebiet der Polymerchemie und der Replikationsverfahren ist es uns möglich, hochmoderne Materiallösungen anzubieten. Diese decken eine steigende Anzahl von industriellen Anwendungsbereichen ab, bei denen die Replikationstechnologie für die Komponentenherstellung beispielsweise in der Unterhaltungselektronik eingesetzt wird. Wir freuen uns sehr über die Zusammenarbeit mit unserem Partner innerhalb der Allianz, da der Erfolg unserer Kunden bei industriellen Prägeprozessen beschleunigt werden kann, wenn Materialien und Ausrüstung aufeinander abgestimmt sind. In dem SUSS Imprint Excellence Center sehen wir große Chancen, der Community das passende Gesamtpaket zur Verfügung zu stellen, um NIL für noch mehr industrielle Anwender verfügbar zu machen".

Über SÜSS MicroTec

SÜSS MicroTec ist einer der weltweit führenden Hersteller von Anlagen- und Prozesslösungen für die Mikro-strukturierung in der Halbleiterindustrie und verwandten Märkten. In enger Zusammenarbeit mit Forschungsinstituten und Industriepartnern treibt SÜSS MicroTec die Entwicklung von neuen Technologien wie 3D-Integration und Nanoimprint-Lithografie sowie Schlüsselprozesse für die MEMS und LED Produktion voran. Weltweit sind mehr als 8.000 installierte Systeme von SÜSS MicroTec im Einsatz, unterstützt von einer globalen Infrastruktur für Applikationen und Service. Hauptsitz der SÜSS Gruppe ist in Garching bei München. Für weitere Informationen besuchen Sie www.suss.com.
Kontakt: Hosgör Sarioglu-Zoberbier, Director Corporate Marketing SÜSS MicroTec SE, Tel: +49 89 32007 397,

E-Mail: hosgoer.sarioglu@suss.com

Über micro resist technology GmbH

Die micro resist technology GmbH ist ein führendes Unternehmen in der Entwicklung und Produktion innovativer Photoresiste, Polymere und Photopolymere sowie komplementärer Prozesschemikalien für lithografische Herstellungsverfahren in der Mikro- und Nanostrukturierung. Die Materiallösungen werden in Schlüsseltechnologien und Wachstumsmärkten wie Mikrosystemtechnik, Mikroelektronik, Optoelektronik, Mikro- und Nanophotonik, Mikro- und Nanotechnologie sowie den Biowissenschaften eingesetzt. Das inhabergeführte Unternehmen besteht seit seiner Gründung 1993 am Standort Berlin (inkl. Entwicklungsabteilung, Fertigung und Logistik sowie der Applikationsreinraum auf 300 m²), agiert mit seinen mehr als 50 Mitarbeiter weltweit und ist erfolgreich nach den Normen ISO 9001: 2015 und ISO 14001: 2015 zertifiziert. Für weitere Informationen besuchen Sie www.microresist.de
Kontakt:

Dr. Arne Schleunitz, Chief Technology Officer, Tel: +49 30 641 670 100,

E-Mail: a.schleunitz@microresist.de